Intel18A作为完全集成背面供电技术的制程节点，虽然此�举使得其M0/M2最小�间距为32nm(大于典型的25nm)，但是�这也使得其可以直接利用EUV一次打印图案，而�原有的典�型方案则需要多道图案化，因此Int…

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