Intel18A作为完全集成�背面供电技术的制程节点，虽然此举使得其M0/M2最小间距为32nm(大于典型的25nm)，但是这也使得其可�以直接利用EUV一次打印�图案，而原有的典型方案则需要多道图案化，因此Int…

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